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地址:苏州市吴中区木渎镇金枫南路
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在半导体器件制造的过程中，氮气的充入可以有效地保护器件表面，防止氧化反应的发生，提高器件的质量和性能。
充氮烤箱在半导体工艺中的应用主要有以下几个方面：
氧化反应控制 充氮烤箱可以在器件制造过程中控制氧化反应的程度和速率，从而实现对氧化层的控制，保证器件的质量和性能。 氮气保护 充氮烤箱可以在烘烤和退火过程中提供氮气环境，避免氧化反应的发生，防止器件表面被氧化，保护器件的性能。 清洁作用 氮气具有较高的纯净度，可以在烤箱内形成净化的环境，有效地减少杂质的污染，保证器件表面的洁净度。 去除气体残留 充氮烤箱中的氮气可以迅速将烤箱内的气体残留物吹散，减少对器件质量的影响。
推荐机型：RE-N-2 RE-N-3 |  |
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